超纯新材料超纯水系统

超纯新材料超纯水系统概述：

当今半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需要大量的纯水、超纯水清洗成品、半成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级超纯水为四个等级，分别为EW-I级≥18MΩ·cm，全硅≤2ug/L、EW-II级≥15MΩ·cm，全硅≤10ug/L，EW-III级≥12MΩ·cm，全硅≤50ug/L、EW级≥0.5MΩ·cm，全硅≤100ug/L 以区分不同的电子级超纯水水质。其中对于超纯水关键的指标如：电导率（电阻率）、总硅、PH值、颗粒度、微生物等均由不同的要求。因此线路板、电路板使用纯水、超纯水因为本身工艺流程的不同对超纯水制造的工艺也不同。

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线 器→抛光混床→精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)

2、预处理系统→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线 器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)

3、预处理系统→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线 器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17MΩ.CM)

4、预处理系统→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线 器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)

5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线 器→精密过滤器→用水点 (≥15MΩ.CM)

电子半导体超纯水系统通常直接接入国家自来水标准的水为源水，通常有多介质过滤器，活性炭过滤器，精密过滤器等构成预处理系统，另有RO反渗透主机系统，离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等构成主要设备系统。系统水箱设有液位控制系统、水泵设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用模块化组合PLC，及通信远程输送至中控室上位机，实现现场就地和集中控制两种操作方式，降低了人工的操作复杂度和维护工作量等，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，或者公司可按照客户对于水质的要求进行特殊定制，既能 用水水质达标，同时降低了所需成本，使该设备与其他同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

超纯新材料超纯水系统用水标准：

符合美国ASTM纯水水质标准、电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准

电子级超纯水系统选型表：

注：1、设备尺寸仅供参考，可根据用户需求进行量身定做；

1、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

2、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

3、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

4、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

5、液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

6、晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制

7、集成电路生产中高纯水清洗硅片

8、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

9、LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

10、高品质显像管、萤光粉生产

11、半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

12、超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料